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  3. 高感度化フォトレジスト材料の合成・設計・開発技術【WEBセミナー】

EUV用レジスト材料など更なる高感度化が求められる新規レジスト材料の開発
メタルレジスト、化学増幅型レジスト、非化学増幅型レジスト材料、、、、
EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料の合成・設計・開発
高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説

高感度化フォトレジスト材料の合成・設計・開発技術【WEBセミナー】
～分子設計・合成方法と最新型EUV用レジスト材料の研究動向～

セミナー概要
略称
フォトレジスト【WEBセミナー】
セミナーNo.
st241211
開催日時
2024年12月17日（火） 10:30～16:30
主催
サイエンス＆テクノロジー（株）
問い合わせ
Tel：03-5857-4811　E-mail：[email protected]　問い合わせフォーム
開催場所
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。　
講師
関西大学　化学生命工学部　化学・物質工学科　教授　博士（工学） 工藤 宏人　氏
価格
非会員： 41,800円（税込）
会員： 39,820円（税込）
学生： 41,800円（税込）
価格関連備考
定　価　：1名につき 41,800円（税込）
会員価格：1名につき 39,820円　2名の場合 55,000円、3名の場合 82,500円（税込）

※上記会員価格は受講者全員の会員登録が必須となります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※他の割引は併用できません。
※請求書は主催会社より代表者のメールアドレスにご連絡いたします。
備考
製本資料（開催日の4、5日前に発送予定)）
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、
　開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。

【ライブ配信（Zoom使用）セミナー】
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
　PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
・お申し込み後、接続確認用URL（https://zoom.us/test）にアクセスして接続できるか等ご確認下さい。
・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
講座の内容
受講対象・レベル
レジスト材料の開発に関する研究にご興味がある方
習得できる知識
レジスト材料の合成方法、評価方法、開発方法
趣旨
　フォトレジスト材料の開発は、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザーと、露光システムの変遷により、そのレジスト材料の骨格を変化させ、露光システムに対応したレジスト材料が開発されてきた。現在、極端紫外線（EUV）露光システムが実用段階として運用されようとしている。しかしながら、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料が開発されていない。
　本テーマでは、これまで開発されてきたレジスト材料の基本的な構造を紹介しながら、レジスト材料の合成方法について、基本的な合成方法から最新の合成例について解説する。さらに、分子レジストや化学増幅型レジストの原理や合成方法について解説し、EUV用レジスト材料の研究開発例を紹介し、それらの問題点、および今後の分子設計方法について解説する。
プログラム

1．レジスト材料
　1.1 原理
　1.2 合成例
　1.3 最新の化学増幅型

2．ポジ型レジスト材料
　2.1 材料的な特性
　2.2 主な応用・用途

3．ネガ型レジスト材料
　3.1 材料的な特性
　3.2 主な応用・用途

4．高分子レジスト材料と低分子レジスト
　4.1 材料的な特性
　4.2 主な応用・用途

5．EUV用レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
　5.1 レジスト材料の評価項目，評価手法について
　5.2 レジスト材料の評価方法と開発例

6．最新型EUV用レジスト材料
　6.1 メタルレジスト
　6.2 化学増幅型レジストと非化学増幅型レジスト材料

7. 質疑応答

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