他社の技術開発の実態を把握し、勝ち抜くためのエッセンス

特許情報分析(パテントマップ)から見た感光性樹脂・フォトレジストの処理
技術開発実態分析調査報告書

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商品概要
略称
感光性樹脂・フォトレジストの処理
商品No
bk5073
発刊日
2015年11月16日(月)
ISBN
【書籍版】978-4-86483-606-7  【CD-ROM版】978-4-86483-608-1
体裁
【書籍版】A4判、全269頁、簡易製本  【CD-ROM版】書籍(PDF)とパテントマップViewer(閲覧ソフト)およびパテントマップ・チャート(パテントマップEXZデータ)が収録されています。
価格
62,500円(税込)
送料
当社負担(国内)
価格関連備考
書籍版:62,500円(税込)    CD-ROM版:62,500円(税込)

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発行
(株)パテントテック社
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Tel:03-5857-4811 E-mail:[email protected] 問い合わせフォーム
書籍の内容

■本誌の特徴等
1.調査目的
 「感光性樹脂・フォトレジストの処理」に関する公開件数、出願人(共同出願人)、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、
 (1)どの感光性樹脂・フォトレジストの処理関連企業にどのような技術の公開があるか、 
 (2)各企業の技術開発動向はどのように推移しているか、
 (3)最近10年余における関連技術の消長はどのようになっているか、
 (4)各企業間の連携状況はどのようになっているか、 
 (5)直近2年間における企業及び技術の注目すべき動向は何か、
 (6)この分野に強い弁理士(特許事務所)と企業の利用状況はどうか
等を明確にして、知財の現状に付き具体的データを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2.特許情報の収集方法
 本調査報告書は、「感光性樹脂・フォトレジストの処理」に関する過去10年余(国内公開日:2005年1月1日~2015年9月30日)に及ぶ公開特許について、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。
特許情報公報の総数は8,127件 である。

3.報告書の構成
 本報告書は、以下の3つの部分から構成されている。
1.パテントマップ編
 A.直近2年間に新規出現した出願人、分類による動向分析(2013年10月~2015年9月)
 B.全般分析 
 C.上位20出願人比較分析
 D.上位5出願人個別分析
 E.上位4社比較分析(1位 富士フイルム、2位 コニカミノルタ、3位 JSR、4位 東京応化工業)
 F.上位20特許分類分析
 G.特定特許分類分析
H.キーワード分析 ※キーワードは発明の名称、要約、請求の範囲から抽出し分析を行った。
 I.弁理士(特許事務所)の動向分析

2.パテントチャート編

3.総括コメント

4. 本報告書の特徴
● 「感光性樹脂・フォトレジストの処理」に関する最近10年余、さらには直近2年間(最新月まで)の技術動向が分かりやすく把握できる
● 本技術分野に関係する弁理士(特許事務所)の動静が読み取れる
● パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい 

━━━≪目次一覧≫━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

はじめに

調査分析結果

1.パテントマップ編

A.直近2年間に新規出現した出願人、分類による動向分析(2013年10月~2015年9月)

A-1.出願人別公開件数ランキング(上位20)
A-2.FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位20)
A-3.Fターム分類別公開件数ランキング(上位20)
A-4.FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、月次)
A-5.Fターム分類別公開件数の推移(上位20、月次)
A-6.FIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
A-7.Fターム分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
A-8.出願人別公開件数伸長率
A-9.FIサブグループ分類別公開件数伸長率(公開件数上位50)
A-10.Fターム分類別公開件数伸長率(公開件数上位50)
A-11.出願人(上位20)とFIサブグループ分類(上位20)の相関
A-12.出願人(上位20)とFターム分類(上位20)の相関
【資料1】2013年10月~2015年9月に新規出現したFIサブグループ分類リスト(上位100)
【資料2】2013年10月~2015年9月に新規出現したFターム分類リスト(上位100)

B.全般分析

B-1.全体の技術開発ライフサイクル
B-2.公開件数の推移(年次と累計)
B-3.出願人数の推移(年次と累計)
B-4.新規発明者数の推移(年次と累計)
B-5.新規FIメイングループ分類数の推移(年次と累計)
B-6.新規FIサブグループ分類数の推移(年次と累計)
B-7.新規Fターム分類数の推移(年次と累計)
B-8.出願人別公開件数ランキング(上位100)
B-9.発明者別公開件数ランキング(上位50)
B-10.FIメイングループ分類別公開件数ランキング(上位50)
B-11.FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位100)
B-12.Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング(上位50)
B-13.Fターム分類別公開件数ランキング(上位100)
B-14.1位Fタームテーマコード2H196の技術分類別件数(着目:2期間)
B-15.1位Fタームテーマコード2H196の技術分類別件数(着目:上位5社)
B-16.出願人別参入・撤退状況(最近40、公開件数5件以上)
B-17.FIメイングループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
B-18.FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
B-19.Fターム分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
B-20.出願人別公開件数伸長率(件数差5件以上)
B-21.発明者別公開件数伸長率(上位50、件数差20件以上)
B-22.FIメイングループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差5件以上)
B-23.FIサブグループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差5件以上)
B-24.Fターム分類別公開件数伸長率(上位50、件数差10件以上)
B-25.FIメイングループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差10名以上)
B-26.FIサブグループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差10名以上)
B-27.Fターム分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差20名以上)

C.上位20出願人比較分析

C-1.公開件数比較(2005年~2009年 VS 2010年~2014年)
C-2.公開件数の推移(累計)
C-3.共同出願人数の推移(累計)
C-4.新規発明者数の推移(累計)
C-5.新規FIメイングループ分類数の推移(累計)
C-6.新規FIサブグループ分類数の推移(累計)
C-7.新規Fターム分類数の推移(累計)
C-8.新規キーワード数の推移(累計)
C-9.上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
C-10.上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
C-11.上位20Fターム分類との公開件数相関
C-12.Fタームテーマコード分類1位と2位における公開件数比較
C-13.公開件数占有率
C-14.審査・権利状況
C-15.公開件数の伸びと1位Fターム分類2H196AA25に関する構成率比較
C-16.発明者数*Fターム分類数の比較

D.上位5社個別分析

D-1-1.【富士フイルム】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-1-2.【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-1-3.【JSR】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-1-4.【東京応化工業】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-1-5.【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-2-1.【富士フイルム】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
D-2-2.【コニカミノルタ】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
D-2-3.【JSR】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
D-2-4.【東京応化工業】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
D-2-5.【東京エレクトロン】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
D-3-1.【富士フイルム】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-3-2.【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-3-3.【JSR】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-3-4.【東京応化工業】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-3-5.【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-4-1.【富士フイルム】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-4-2.【コニカミノルタ】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-4-3.【JSR】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-4-4.【東京応化工業】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-4-5.【東京エレクトロン】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
D-5-1.【富士フイルム】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
D-5-2.【コニカミノルタ】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
D-5-3.【JSR】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
D-5-4.【東京応化工業】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
D-5-5.【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
D-6-1.【富士フイルム】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数3件以上)
D-6-2.【コニカミノルタ】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数3件以上)
D-6-3.【JSR】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数3件以上)
D-6-4.【東京応化工業】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数3件以上)
D-6-5.【東京エレクトロン】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数3件以上)
D-7-1.【富士フイルム】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-7-2.【コニカミノルタ】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
D-7-3.【JSR】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
D-7-4.【東京応化工業】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
D-7-5.【東京エレクトロン】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
D-8-1.【富士フイルム】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
D-8-2.【コニカミノルタ】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
D-8-3.【JSR】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
D-8-4.【東京応化工業】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
D-8-5.【東京エレクトロン】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
D-9-1.【富士フイルム】共同出願人との連携
D-9-2.【コニカミノルタ】共同出願人との連携
D-9-3.【JSR】共同出願人との連携
D-9-4.【東京応化工業】共同出願人との連携
D-9-5.【東京エレクトロン】共同出願人との連携

E.上位4社比較分析

E-1.4社の上位20FIサブグループ分類別公開件数の推移(年次)
E-2.4社の富士フイルム上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
E-3.4社のコニカミノルタ上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
E-4.4社のJSR上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
E-5.4社の東京応化工業上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
E-6.4社の2H196AA(感光性樹脂・フォトレジストの処理>目的、用途)のFターム分類別公開件数ランキング(上位10)
E-7.4社の2H196BA(感光性樹脂・フォトレジストの処理>感光性材料)のFターム分類別公開件数ランキング(上位10)
E-8.4社のFIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位10)
E-9.4社のFターム分類別出現・消失状況(公開件数上位10)
E-10.富士フイルムの公開件数伸び変遷
E-11.コニカミノルタの公開件数伸び変遷
E-12.JSRの公開件数伸び変遷
E-13.東京応化工業の公開件数伸び変遷
E-14.4社とFターム分類(上位20)との公開件数相関
E-15.Fターム分類別公開件数グロスランキング(上位10)

F.上位20特許分類分析

F-1.FIメイングループ分類別公開件数比較(上位20)(2005年~2009年 VS 2010年~2014年)
F-2.FIサブグループ分類別公開件数比較(上位20)(2005年~2009年 VS 2010年~2014年)
F-3.Fターム分類別公開件数比較(上位20)(2005年~2009年 VS 2010年~2014年)
F-4.FIメイングループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
F-5.FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
F-6.Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
F-7.FIメイングループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
F-8.FIサブグループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
F-9.Fターム分類別出願人数の推移(上位20、年次)
F-10.FIメイングループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
F-11.FIサブグループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
F-12.Fターム分類別発明者数の推移(上位20、年次)
F-13.FIメイングループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
F-14.FIサブグループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
F-15.Fターム分類別公開件数占有率(公開件数上位20)

G.特定特許分類分析

G-1.特定特許分類分析(1)
 G-1-1.特定FIサブグループ分類の公開件数の推移(年次)
 G-1-2.特定FIサブグループ分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
 G-1-3.特定Fターム分類の公開件数の推移(年次)
 G-1-4.特定Fターム分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
 G-1-5.特定FIサブグループ分類の新規出願人数の推移(年次)
 G-1-6.特定Fターム分類の新規出願人数の推移(年次)
 G-1-7.特定FIサブグループ分類の新規発明者数の推移(累計)
 G-1-8.特定Fターム分類の新規発明者数の推移(累計)
 G-1-9.特定FIサブグループ分類H01L21/30の公開件数伸長率変遷
 G-1-10.特定FIサブグループ分類G03F7/004の公開件数伸長率変遷
 G-1-11.特定Fターム分類2H196AA25の公開件数伸長率変遷
 G-1-12.特定Fターム分類2H196GA08の公開件数伸長率変遷
 G-1-13.特定FIサブグループ分類H01L21/30の出願人別公開件数ランキング(上位50)
 G-1-14.特定FIサブグループ分類G03F7/004の出願人別公開件数ランキング(上位50)
 G-1-15.特定Fターム分類2H196AA25の出願人別公開件数ランキング(上位50)
 G-1-16.特定Fターム分類2H196GA08の出願人別公開件数ランキング(上位50)

G-2.特定特許分類分析(2)
 G-2-1.特定Fターム分類2H196AA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
 G-2-2.特定Fターム分類2H196BA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
 G-2-3.特定Fターム分類2H196EA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
 G-2-4.特定Fターム分類2H196GA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
 G-2-5.特定Fターム分類2H196HA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
 G-2-6.特定Fターム分類2H196AA関連の公開件数比較(上位10)
 G-2-7.特定Fターム分類2H196BA関連の公開件数比較(上位10)
 G-2-8.特定Fターム分類2H196EA関連の公開件数比較(上位10)
 G-2-9.特定Fターム分類2H196GA関連の公開件数比較(上位10)
 G-2-10.特定Fターム分類2H196HA関連の公開件数比較(上位10)
 G-2-11.特定Fターム分類2H196AA関連の公開件数の推移(上位10、年次)
 G-2-12.特定Fターム分類2H196BA関連の公開件数の推移(上位10、年次)
 G-2-13.特定Fターム分類2H196EA関連の公開件数の推移(上位10、年次)
 G-2-14.特定Fターム分類2H196GA関連の公開件数の推移(上位10、年次)
 G-2-15.特定Fターム分類2H196HA関連の公開件数の推移(上位10、年次)
 G-2-16.特定Fターム分類2H196AA関連(上位10)と特定Fターム分類2H196BA関連(上位10)との公開件数相関
 G-2-17.特定Fターム分類2H196AA関連(上位10)と特定Fターム分類2H196EA関連(上位10)との公開件数相関
 G-2-18.特定Fターム分類2H196AA関連(上位10)と特定Fターム分類2H196GA関連(上位10)との公開件数相関
 G-2-19.特定Fターム分類2H196AA関連(上位10)と特定Fターム分類2H196HA関連(上位10)との公開件数相関
 G-2-20.特定Fターム分類2H196AA関連(上位10)と上位20出願人との公開件数相関
 G-2-21.特定Fターム分類2H196BA関連(上位10)と上位20出願人との公開件数相関
 G-2-22.特定Fターム分類2H196EA関連(上位10)と上位20出願人との公開件数相関
 G-2-23.特定Fターム分類2H196GA関連(上位10)と上位20出願人との公開件数相関
 G-2-24.特定Fターム分類2H196HA関連(上位10)と上位20出願人との公開件数相関
 G-2-25.特定Fターム分類2H196AA関連の公開件数伸長率変遷
 G-2-26.特定Fターム分類2H196BA関連の公開件数伸長率変遷
 G-2-27.特定Fターム分類2H196EA関連の公開件数伸長率変遷
 G-2-28.特定Fターム分類2H196GA関連の公開件数伸長率変遷
 G-2-29.特定Fターム分類2H196HA関連の公開件数伸長率変遷

H.キーワード分析

H-1.キーワード別公開件数ランキング(上位100)
H-2.キーワード別出現・消失状況(最近80、公開件数5件以上)
H-3.キーワード別公開件数の伸長率(上位50、件数差30件以上)

I.弁理士(特許事務所)の動向分析

I-1.弁理士(特許事務所)別公開件数ランキング(上位40)
I-2.上位40弁理士(特許事務所)別公開件数の推移(年次)
I-3.上位40弁理士(特許事務所)と上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
I-4.上位40弁理士(特許事務所)と上位40出願人との公開件数相関

2.パテントチャート編

(1)東レの時系列チャート分析
(2)日立化成デュポンマイクロシステムズの時系列チャート分析
(3)東レの1位と3位Fタームテーマコード分類と上位2発明者のマトリクスチャート分析
(4)日立化成デュポンマイクロシステムズの上位2Fタームテーマコード分類と上位2発明者のマトリクスチャート分析
(5)東レのFタームコード2H196の技術分類マトリクスチャート
(6)飯原明宏など4名(東レ)の公報4件のサイテーションマップ

3. 総括コメント

<参考資料>
【資料3】出願人統合リスト
【資料4】上位20出願人の発明者リスト
【資料5】富士フイルムの最新40件公報の審査権利状況リスト
【資料6】パテントマップ・パテントチャートの種別と見方

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