ナノインプリントの技術と開発戦略

第1編 ナノインプリントの技術と展開

1章　ナノインプリントの開発

1　微細凹凸パターン形成方法

　(1)型転写法

　[1]射出成形法

　[2]プレス成形法

　[3]注型成形法

　(2)フォトリソグラフィ

2　ナノインプリントの開発と技術

　(1)熱ナノインプリント

　(2)光ナノインプリント

　(3)ソフトリソグラフィ

3　ナノインプリント技術の分類と種類

4　ナノインプリントの応用

　[1]IT,エレクトロニクス関連

　　1)記録媒体

　　2)半導体デバイス

　　3)光・光デバイス　

　　4)電子ディスプレイ

　[2]バイオ,ライフサイエンス関連

　[3]環境,エネルギー関連

5　ナノインプリントの関連文献

第2編　ナノインプリントの特許動向の概要

2章　特許動向の解析と概要

1　関連特許の調査解析対象

　(1)調査解析の対象

　(2)関連用語

2　特許動向の概要

　(1)ナノインプリント特許の分類別件数推移

　(2)ナノインプリント特許の分類別件数構成比

3　主要特許とパテントファミリー

第3編　ナノインプリントの技術と特許動向

3章　熱ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　[1]転写方法

　　1)プレス方法

　　2)加熱,冷却条件

　　3)転写層のプレス加工

　[2]離型方法

　(2)転写材料

　[1]樹脂

　[2]添加剤

　[3]物性

　[4]複層転写層

　(3)モールド

　[1]形状

　　1)凹凸形状

　　2)湾曲モールド

　　3)円筒状モールド

　[2]特性

　[3]被覆層

　[4]複層構造

　[5]作成方法

　　1)成膜・離型

　　　(a)注型成形

　　　(b)乾式成膜

　　　(c)湿式成膜

　　2)エッチング加工

　　3)直接加工

　(4)離型剤

　　1)有機系

　　2)無機系

　(5)転写装置

　[1]複数のモールド,基板

　[2]プレス装置

　　1)圧縮緩衝装置

　　2)プレス条件の設定

　[3]加熱・冷却装置

　　1)加熱装置

　　2)冷却装置

　[4]モールド・基板支持部材

　　1)モールド支持部材

　　2)基材支持部材

　　3)モールド,基材支持部材

　[5]周辺制御装置・機構

　　1)位置制御

　　2)傾き制御

　　3)駆動制御

　(6)応用

　[1]IT,エレクトロニクス関連

　　1)記録媒体

　　　(a)磁気記録媒体

　　　(b)光記録媒体

　　　(c)磁気・光記体

　　2)光デバイス

　　3)電子ディスプレイ

　　　(a)LCD

　　　(b)EL

　　　(c)FED

　　4)光デバイス

　　　(a)発光素子

　　　(b)照明装置

　　　(c)フォトニック液晶

　　　(d)偏向子

　　　(e)遮光フィルム

　　5)その他

　　　(a)インクジェットヘッド

　　　(b)導電性回路

　　　(c)異方性導電層

　[2]バイオ,ライフサイエンス関連

　　1)マイクロ化学・バイオチップ

　　　(a)マイクロ流路システム

　　　(b)マイクロアレイチップ

　　2)化学・バイオセンサ

　　3)医療機器・機材

　[3]環境,エネルギー関連

4章　光ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　[1]転写方法

　[2]転写材料の塗布

　　1)塗布方法

　　2)塗布領域の制御

　　3)塗布後の処置

　[3]プレス方法

　　1)ソフトプレス

　　2)加振プレス

　　3)光照射方法

　(2)転写材料

　[1]転写材料

　　1)ラジカル重合タイプ

　　2)カチオン重合タイプ

　　3)ラジカル重合またはイオン重合タイプ

　　　(a)(メタ)アクリレート系

　　　(b)エポキシ系

　　　(c)環化重合系

　[2]添加剤

　[3]材料特性

　[4]転写層上の機能層

　(3)モールド

　[1]形状

　　1)凹凸形状

　　2)全体形状

　　3)非平板モールド

　[2]材料

　[3]被覆層

　[4]複層構造

　[5]補助構造

　[6]作成方法

　　1)無機系モールド　

　　2)樹脂系モールド

　[7]周辺部材

　(4)転写装置

　[1]転写材料の塗布装置

　[2]位置決め装置,機構

　[3]光照射装置

　(5)転写後の処理

　(6)応用

　[1]IT,エレクトロニクス関連

　　1)記録媒体

(a)磁気記録媒体

(b)光記録媒体

　　2)半導体デバイス

　　3)電子ディスプレイ

　　4)光デバイス

5章　超音波支援型熱ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

6章　電磁波支援型熱ナノインプリント

1　概要

2特許展開

7章　常温ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)転写装置

　(3)応用

8章　溶媒補助型ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

9章　加圧気体浸透型ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

10章　近接場光型光ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

11章　定温ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

12章　フォトリソグラフィ複合型光ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)転写材料

　(3)モールド

　(4)応用

13章　ドライフィルムレジスト型ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)転写材料

　(3)応用

14章　軟化剤除去型ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

15章　モールド分解型ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)モールド

16章　フレキシブルナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)応用

17章　高温焼成型ゾルゲルナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写材料

　(2)モールド

　(3)応用

　[1]IT,エレクトロニクス関連

　[2]環境,エネルギー関連

18章　室温ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)転写材料

　(3)転写装置

　(4)応用

　[1]IT,エレクトロニクス関連

　　1)記録媒体

　　2)電子ディスプレイ部品

　[2]バイオ,ライフサイエンス関連

19章　光硬質型室温ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

20章　乾燥膜刻印型ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

21章　樹脂溶出型リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

22章　キャビティ内重合型リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

23章　硬質モールド型毛細管マイクロモールド(硬質型MIMIC)

1　概要

2　特許展開

24章　硬質モールド型毛細管力リソグラフィ(硬質M型CFL)

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)モールド

25章　ギャップ充填型毛細管力リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

26章　リバーサルナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)応用

27章　ナノキャスティング

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)転写材料

　(3)モールド

28章　液状転写層型ナノキャスティング

1　概要

2　特許展開

29章　硬質モールド型マイクロコンタクトプリント(硬質M型μCP)

1　概要

2　特許展開

30章　カソードトランスファー

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)転写材料

31章　無機薄膜型リバーサルナノインプリント

1　概要

2　特許展開

32章　コールドウェルディングリソグラフィ

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)応用

33章　堆積型リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

34章　静電引力型リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

35章　Aレジストナノインプリント/共通

1　特許展開

　(1)転写技術

　[1]プレス方法

　　1)流体圧力プレス

　　2)磁力プレス

　　3)慣性圧力プレス　

　　4)超音波振動プレス

　[2]モールドの圧入構造

　[3]モールド,基板の組合わせ

　　1)複数種のモールド

　[4]離型方法

　(2)転写材料

　[1]転写材料

　[2]転写層

　　1)形状

　　2)複層構造

　　3)転写層の加工処理

　(3)モールド

　[1]材料

　[2]形状

　　1)凹凸形状

　　2)表面粗さ

　　3)断面形状

　　4)凹凸領域の周辺形状

　　5)多版型モールド

　[3]被覆層

　[4]複層構造

　[5]補助構造体

　[6]作成方法

　　1)モールド原盤利用

(a)インプリント単独

(b)後工程/エッチング

(c)後工程/めっき成膜

(d)後工程/その他

　　2)モールド原盤非利用

(a)電子線リソグラフィ

(b)その他リソグラフィ

(c)関連技術

　　3)非レジストリソグラフィ

(a)陽極酸化

　[7]修復,クリーニング

　　1)修復

　　2)切断加工

　　3)クリーニング

　(4)離型剤

　[1]有機系

　[2]無機系

　(5)転写装置

　[1]転写材料関連

　　1)転写材料の供給　

　　2)転写材料の充填,検査

　　3)パターン層の検査

　[2]モールド関連

　　1)形状の検査,計測

　　2)モールド支持

　　3)位置合わせ

(平行調整)

　　4)位置合わせ

(距離調整)

　　5)モールドの傾き計測

　　6)プレス

　[3]基板支持関連

　　1)支持部材

　[4]圧力環境

　[5]離型関連

　[6]その他

　　1)エネルギー供給　

　　2)関連工程の組み合わせ

　(6)離型後の処理

　　1)変性処理

　　2)凸部の加工,補修

　(7)応用

　[1]IT,エレクトロニクス関連

　　1)記録媒体

　　　(a)磁気記録媒体

　　　(b)光記録媒体

　　2)半導体デバイス

　　　(a)半導体デバイス

　　　(b)電界効果トランジスタ

　　　(c)薄膜トランジスタ

　　　(d)メモリ素子・装置

　　3)電子ディスプレイ

　　　(a)LCD

　　　(b)EL

　　　(c)電気泳動表示装置

　　　(d)プラズマディスプレイ

　　4)光・光学デバイス

　　　(a)半導体発光素子

　　　(b)光導波路

　　　(c)フォトニック液晶

　　　(d)偏光素子

　　　(e)位相差・波長素子

　　　(f)回折素子

　　5)その他

　　　(a)インクジェットヘッド

　　　(b)物理センサ

　　　(c)露光用マスク

　[2]バイオ,ライフサイエンス関連

　　1)マイクロ化学・バイオチップ

　　　(a)マイクロ流路システム

　　　(b)マイクロアレイチップ

　　2)化学・バイオセンサ

　　　(a)化学センサ

　　　(b)バイオセンサ

　　　(c)化学またはバイオセンサ

　　3)医療機器等

　　　(a)マイクロニードル

　[3]環境,エネルギー関連

　　1)燃料電池

　[4]その他

　　1)配線基板

　　2)多孔質構造体

36章　直接ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)転写材料

　(3)モールド

　(4)応用

　[1]　汎用微細構造体

　　1)多孔性陽極酸化膜

　[2]IT,エレクトロニクス関連

　　1)記録媒体

　　2)電子デバイス

　　3)電子ディスプレイ部品

　　4)光部品

　[3]バイオ,ライフサイエンス関連

37章　加熱型直接ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)転写材料

　(3)モールド

　(4)転写装置

　(5)応用

　[1]汎用微細構造体

　[2]IT,エレクトロニクス関連

　　1)記録媒体

　　2)電子ディスプレイ部品

　　3)光通信部品

38章　静電引力型直接ナノインプリント

1　概要

2　特許展開

39章　AレジストナノインプリントとB直接ナノインプリント/共通

1　特許展開

　(1)転写技術　

　(2)モールド

　[1]材料　

　[2]形状

　[3]複層構造

　[4]表面特性

　[5]製造方法

　[6]補修,洗浄

　(3)転写装置

　(4)応用

　[1]汎用微細構造体

　[2]IT,エレクトロニクス関連

　　1)記録媒体

　[3]環境・エネルギー関連

40章　マイクロコンタクトプリント(μCP)

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)転写材料

　(3)モールド

　[1]材料

　[2]形状,構造

　　1)凸部形状

　　2)面形状

　　3)構造

　[3]表面処理・加工

　[4]作成方法

　(4)転写装置

　(5)応用

　[1]IT,エレクトロニクス関連

　　1)記録媒体

　　　(a)光記録媒体

　　2)半導体デバイス

　　　(a)半導体デバイス

　　　(b)有機半導体デバイス

　　　(c)有機電界効果トランジスタ

　　　(d)有機薄膜トランジスタ

　　3)電子ディスプレイ

　　　(a)LCD

　　　(b)有機EL

　　4)光デバイス

　　　(a)発光素子

　　5)その他

　　　(a)インクジェットヘッド　

　　　(b)圧電素子　

　　　(c)マイクロレンズアレイ

　　　(d)コンタクトレンズ

　　　(e)ナノワイヤ

　　　(f)導電パターン　

　　　(g)隔壁

　[2]バイオ,ライフサイエンス関連

　　1)マイクロ化学・バイオチップ

　　　(a)マイクロ流路システム

　　　(b)マイクロ化学チップ

　　2)化学・バイオセンサ

　　　(a)化学センサ

　　　(b)バイオセンサ

　　3)医療用部材

　[3]環境・エネルギー関連

　　1)燃料電池　

　　2)太陽電池

　[4]その他

　　1)電極パターン

　　　(a)直接形成・加工

　　　(b)マスク材利用

　　2)撥液性,親液性パターン

41章　マイクロトランスファーモールド

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術　

　(2)応用

42章　ナノトランスファープリント

(μTM)

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)応用

43章　ガス圧支援型マイクロコンタクトプリント

1　概要

2　特許展開

44章　毛細管マイクロモールド

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)モールド

　(3)応用

　[1]IT,エレクトロニクス関連

　[2]バイオ,ライフサイエンス関連

　[3]その他

45章　溶媒促進マイクロモールド

46章　毛細管力ソグラフィ

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)応用

47章　エッジトランスファーリソグラフィ

1　概要

2　特許展開

48章　加圧充填型ソフトリソグラフィ

49章　レプリカモールド

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)応用

　[1]IT,エレクトロニクス関連

　[2]バイオ,ミカルス関連

50章　リキッドエンボス

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)転写材料

　(3)応用

　[1]汎用微細構造体

　[2]IT,エレクトロニクス関連

51章　リフトアップリソグラフィ

1　概要

2　特許展開

52章　ディーカルトランスファーリソグラフィ

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)応用

53章　フォトリソグラフィ複合型ソフトリソグラフィ

1　概要

2　特許展開

54章　近接場位相シフトリソグラフィ

1　概要

2　特許展開

55章　表面改質型ソフトリソグラフィ

1　概要

2　特許展開

56章　Cソフトリソグラフィ/共通

1　特許展開

　(1)転写技術

　(2)モールド

　[1]材料

　[2]形状,構造

　[3]作成方法

　[4]補助部材

　(3)応用

　[1]汎用微細構造体

　[2]IT,エレクトロニクス関連

　　1)半導体デバイス

　　　(a)有機電界効果トランジスタ

　　　(b)有機薄膜トランジスタ

　　2)光デバイス

　　3)電子ディスプレイ

　[2]バイオ,ライフサイエンス関連

　　1)マイクロ化学・バイオチップ

　　　(a)マイクロ流路システム

　　　(b)マイクロアレイチップ

　　2)化学・バイオセンサ

　　3)医療機器・機材

　[3]環境,エネルギー関連

57章　AレジストナノインプリントとCソフトリソグラフィ/共通

1　特許展開

　(1)転写材料

　(2)モールド

　(3)転写装置

　(4)応用

　[1]汎用微細構造体

　[2]IT,エレクトロニクス関連

　　1)記録媒体

　　2)電子デバイス

　　3)光デバイス

　　4)電子ディスプレイ

　[3]バイオ,ケミカルス関連

　　1)マイクロバイオ・化学チップ

　　　(a)マイクロ流路システム

　　　(b)バイオチップ

　[4]環境・エネルギー関連

58章 化学的変性型リソグラフィ

1概要

2特許展開

59章 ナノ電極リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)転写材料

　(3)モールド

　(4)転写装置

　(5)応用

60章　帯電リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術　

　(2)モールド

　(3)応用

61章　磁性変性型リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

62章　結晶性変性型リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

63章　加圧相変性型リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

64章　プラズマエッチング型リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

65章　光触媒リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

　(1)転写技術

　(2)応用

66章　燃焼除去型リソグラフィ

1　概要

2　特許展開

67章　昇華除去型リソグラフィ

1　概要

2　特許展開 第4編　主要企業の特許展開

68章　主要企業の特許展開

　[1]セイコーエプソン

　[2]キヤノン

　[3]東芝

　[4]TDK

　[5]リコー

　[6]富士フイルム

　[7]凸版印刷

　[8]フィリップス

　[9]富士ゼロックス

　[10]パナソニック

69章　大学研究者の出願動向

第5編 関連特許公報一覧

70章　関連特許公報一覧

　[1]調査解析テーマと対象範囲と対象期間

　[2]関連特許公報一覧の作表基準

　[3]年別公開・公表・再公表特許公報一覧

　[4]年別公開特許-特許番号対照

　[5]特許番号-公開・公表・再公表特許対照